OFIL紫外成像儀公司介紹電暈放電可能對非陶瓷絕緣子的完整性構(gòu)成重大威脅
由于外殼材料的有機性質(zhì)，電暈放電可能對非陶瓷絕緣子（NCI）的完整性構(gòu)成重大威脅，對于輸電級絕緣子（69 kV及以上），電暈不僅在污染環(huán)境中，而且在清潔環(huán)境中也是一個問題。根據(jù)世界范圍的經(jīng)驗，已確定大多數(shù)NCI應(yīng)用處于相對清潔或輕度污染的條件下。在NCI上，由于硬件設(shè)計不充分、硬件損壞以及由于設(shè)計和/或制造不當(dāng)而導(dǎo)致的接口缺陷，電暈可能會在本地長期存在。OFIL紫外成像儀分公司|OFIL紫外成像儀總代理|OFIL紫外成像儀代表處|OFIL紫外成像儀總公司|OFIL紫外成像儀辦事處|在哪里
對230 kV和500 kV絕緣子的現(xiàn)場檢查證實，即使在相對干燥和清潔的條件下，也存在電暈。在實際高壓系統(tǒng)中，現(xiàn)場很難避免電暈，尤其是在潮濕和污染條件下。所以，了解電暈放電的大小和外殼材料的損傷閾值是至關(guān)重要的。由于帶電粒子的撞擊、紫外線（UV）輻射和臭氧的釋放，電暈會產(chǎn)生多種效應(yīng)，如機械效應(yīng)。生成高度氧化和水合的氮氧化物，這些氮氧化物在水分中溶解時會形成酸。外殼上的任何裂縫都可能使玻璃纖維芯受潮。外露桿可能因跟蹤、侵蝕或脆性斷裂而失效，導(dǎo)致過早失效。因此，有必要定期檢查NCI并及時更換劣化絕緣子。OFIL紫外成像儀公司介紹電暈放電可能對非陶瓷絕緣子的完整性構(gòu)成重大威脅
降解聚合物的表征：
（i） 傅里葉變換紅外光譜
FTIR是識別有機材料中不同類型化學(xué)鍵的有力工具。分子鍵以不同的頻率振動，這取決于元素和鍵的類型。對于給定的鍵，有幾個特定的頻率可以振動。材料吸收的光的波長是化學(xué)鍵的特征，吸收強度與鍵的濃度成正比。OFIL紫外成像儀公司介紹電暈放電可能對非陶瓷絕緣子的完整性構(gòu)成重大威脅
（二）激光**
目前人們對激光用于科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用的興趣與激光的獨特特性直接相關(guān)。激光實現(xiàn)的高空間相干性允許在高能量密度下進行極端聚焦和定向輻照。激光的單色性及其可維持性開啟了高選擇性窄帶激發(fā)的可能性[12]。
激光與物質(zhì)之間的相互作用機制取決于激光束的參數(shù)和材料的物理化學(xué)性質(zhì)。激光參數(shù)包括波長、強度、時空相干性、偏振和入射角。這種材料的化學(xué)成分和微觀結(jié)構(gòu)決定了基本激發(fā)的類型以及它們之間的相互作用。傳統(tǒng)的激光加工主要采用紅外激光進行。這可以激發(fā)金屬內(nèi)的自由電子或絕緣體內(nèi)的振動。一般來說，與過程中涉及的任何其他時間相比，激發(fā)能在短時間內(nèi)以熱的形式耗散。因此，對于低強度和中等強度，激光束只能被視為熱源，導(dǎo)致材料表面和大部分溫度升高這在圖1中示意性地示出。OFIL紫外成像儀公司介紹電暈放電可能對非陶瓷絕緣子的完整性構(gòu)成重大威脅
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圖1：激光熱處理
溫度分布由材料的熱學(xué)和光學(xué)性質(zhì)決定。當(dāng)激光強度（I）達到臨界值（Iv）時，超過該臨界值，材料會發(fā)生顯著汽化，形成蒸汽羽流，如圖2所示。圖2。用激光對材料進行熱處理（I>Iv）
圖2：材料的激光熱處理（I>Iv）
隨著強度的進一步增加，羽流中的物種數(shù)量增加，激光與蒸汽之間的相互作用變得非常重要。這些導(dǎo)致物種電離。蒸汽也可以適當(dāng)?shù)乇硎緸榈入x子體
結(jié)果與分析
（i） 硅橡膠硅橡膠樣品經(jīng)過500小時的電暈暴露。一根帶有**（約0.02 cm）的銅棒，由交流電壓供電，用作電暈源（點平面電極配置）。電極布置封閉在尺寸為45cm x 45cm x 120cm的丙烯酸室中。使用示波器（Tektronix 540C型）和電暈照相機監(jiān)測電暈活動。通過材料表面的視覺變化、光學(xué)顯微鏡、FTIR光譜和激光處理技術(shù)對電暈引起的降解進行量化。傅里葉變換紅外光譜
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